چه کسی روش تمیز کردن دستگاه اولتراسونیک ویفر سیلیکونی را می داند؟

سه نوع نظافت فیزیکی وجود دارد:

1. اسکراب یا اسکراب: می تواند آلودگی ذرات و بیشتر فیلم چسبیده روی فیلم را از بین ببرد.

2.تمیز کردن فشار بالا: این است که سطح ورق را با مایع اسپری کنید و فشار نازل تا چند صد اتمسفر است. تمیز کردن فشار بالا با عمل جت، ایجاد خراش و آسیب فیلم آسان نیست. با این حال، تزریق فشار بالا باعث ایجاد اثر الکترواستاتیک می شود که می توان با تنظیم فاصله و زاویه از نازل تا فیلم یا افزودن عامل آنتی استاتیک از آن جلوگیری کرد.

تمیز کردن اولتراسونیک: انرژی صوتی اولتراسونیک به محلول، با کاویتاسیون برای شستشوی آلودگی روی ویفرها. با این حال، حذف ذرات کوچکتر از 1 میکرون از ویفرهای نموداری دشوارتر است. اگر فرکانس به uHF افزایش یابد، اثر تمیز کردن بهتر است.

تمیز کردن شیمیایی: برای حذف آلودگی اتمی، یونی نامرئی، روش های بیشتری وجود دارد، استخراج با حلال، ترشی (اسید سولفوریک، اسید نیتریک، آکوآکوا، انواع اسیدهای مخلوط و ...) و روش پلاسما. روش تمیز کردن سیستم پراکسید هیدروژن اثر خوب و آلودگی محیطی کمی دارد.